Prozess zum Herstellen eines Soi-Wafers

EP1981065 Art B1 3. Dezember 2014

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1981065
Aktenzeichen: EP06781031
Anmeldetag: 12. Juli 2006
Veröffentlichung: 3. Dezember 2014
Erteilung: 3. Dezember 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02C30B29/06H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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