Organischer Silicafilm und Verfahren zu Seiner Herstellung, Zusammensetzung zur Bildung eines Isolationsfilms einer Halbleiteranordnung und Verfarhen zu Seiner Herstellung, Verdrahtungsstruktur und Halbleiteranordnung

EP1981074 Art B1 22. Juni 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1981074
Aktenzeichen
EP07707817
Anmeldetag
31. Januar 2007
Veröffentlichung
22. Juni 2011
Erteilung
22. Juni 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/312C09D183/04C09D183/14H01B3/00C08G77/60
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen