Organischer Silicafilm und Verfahren zu Seiner Herstellung, Zusammensetzung zur Bildung eines Isolationsfilms einer Halbleiteranordnung und Verfarhen zu Seiner Herstellung, Verdrahtungsstruktur und Halbleiteranordnung
EP1981074
Art B1
22. Juni 2011
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1981074
- Aktenzeichen
- EP07707817
- Anmeldetag
- 31. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 22. Juni 2011
- Erteilung
- 22. Juni 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/312C09D183/04C09D183/14H01B3/00C08G77/60
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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