Verfahren zum Herstellen eines Halbleitersubstrats

EP1986217 Art B1 24. April 2013

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1986217
Aktenzeichen: EP07708227
Anmeldetag: 8. Februar 2007
Veröffentlichung: 24. April 2013
Erteilung: 24. April 2013
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02C30B31/22C30B33/06H01L21/20H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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