Soi-Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Soi-Substrats

EP1986219 Art A1 29. Oktober 2008

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1986219
Aktenzeichen: EP07708229
Anmeldetag: 8. Februar 2007
Veröffentlichung: 29. Oktober 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/336H01L27/12H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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