Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und Dadurch Hergestellte Halbleitervorrichtung
EP1986832
Art B1
31. März 2010
Anmelder: Dow Corning Toray Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1986832
- Aktenzeichen
- EP07714631
- Anmeldetag
- 14. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 31. März 2010
- Erteilung
- 31. März 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B29C43/50C08L83/04H01L21/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dow Corning Toray Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇺🇸
Dow Corning
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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Vertreten von
Gillard, Richard Edward
London, Großbritannien
915
Patente gesamt
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Fachgebiete
21
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