Vorrichtung und Verfahren zur Reduktion der Erosionsrate von halogenhaltigen Plasmen ausgesetzten Oberflächen

EP1988187 Art A3 8. Dezember 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1988187
Aktenzeichen
EP08154940
Anmeldetag
22. April 2008
Veröffentlichung
8. Dezember 2010
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/44C04B35/505C04B41/87H01J37/32C23C4/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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