Verfahren zur Verringerung der Mikrorauhigkeit einer Halbleiteroberfläche

EP1988567 Art B1 5. Juni 2013

Anmelder: TOHOKU UNIVERSITY, Foundation for Advancement of International Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1988567
Aktenzeichen
EP07707705
Anmeldetag
30. Januar 2007
Veröffentlichung
5. Juni 2013
Erteilung
5. Juni 2013
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/306G01B11/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
TOHOKU UNIVERSITY
Foundation for Advancement of International Science
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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