Planar-Heizvorrichtung
EP1988750
Art A1
5. November 2008
Anmelder: Covalent Materials Corporation, Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1988750
- Aktenzeichen
- EP07708125
- Anmeldetag
- 7. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 5. November 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05B3/86H05B3/14H05B3/74H05B3/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Covalent Materials Corporation
Tokyo Electron Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München