Verfahren und Vorrichtung für durch DC-Plasma unterstützte Ablagerung chemischen Dampfes ohne positive Spalte und daraus hergestellte Diamant-Dünnschicht

EP1990443 Art A3 26. November 2008

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1990443
Aktenzeichen
EP07114065
Anmeldetag
9. August 2007
Veröffentlichung
26. November 2008
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/27C23C16/503
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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