Verfahren und Vorrichtung für durch DC-Plasma unterstützte Ablagerung chemischen Dampfes ohne positive Spalte und daraus hergestellte Diamant-Dünnschicht
EP1990443
Art A3
26. November 2008
Anmelder: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1990443
- Aktenzeichen
- EP07114065
- Anmeldetag
- 9. August 2007
- Veröffentlichung
- 26. November 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/27C23C16/503
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Institute of Science and Technology
Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.
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van Westenbrugge, Andries
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