Verfahren zur Herstellung einer seltenerdoxid-haltigen gespritzten Platte

EP1995343 Art B1 3. August 2016

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1995343
Aktenzeichen: EP08009114
Anmeldetag: 16. Mai 2008
Veröffentlichung: 3. August 2016
Erteilung: 3. August 2016
Rechtsraum: EP
IPC: C23C4/06C23C4/10C23C4/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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