Zusammensetzung zur Bildung eines Unterschichtfilms und Verfahren zur Strukturformung

EP1995636 Art A1 26. November 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1995636
Aktenzeichen: EP07738617
Anmeldetag: 14. März 2007
Veröffentlichung: 26. November 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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