Verfahren zur Herstellung einer Lichtwellenleitervorform mit thermischem Hochfrequenz-Induktionsplasma

EP1997783 Art B1 18. März 2015

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1997783
Aktenzeichen: EP08009750
Anmeldetag: 28. Mai 2008
Veröffentlichung: 18. März 2015
Erteilung: 18. März 2015
Rechtsraum: EP
IPC: C03B37/014C03B37/018

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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