Sputtererfahren zur Herstellung einer Dunnschicht aus Siliziumnitrid mit Zugspannung
EP1999289
Art A2
10. Dezember 2008
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1999289
- Aktenzeichen
- EP07752575
- Anmeldetag
- 7. März 2007
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/00C23C14/06C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Beresford, Keith Denis Lewis
London, Großbritannien
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