Fotomaskenrohling, Verfahren zur Fotolackmusterformung und Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske

EP2000851 Art B1 29. Juli 2015

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2000851
Aktenzeichen: EP08010295
Anmeldetag: 5. Juni 2008
Veröffentlichung: 29. Juli 2015
Erteilung: 29. Juli 2015
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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