Prozesssystem und Prozessflüssigkeitszufuhrverfahren

EP2001041 Art B1 30. Dezember 2009

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2001041
Aktenzeichen: EP08162953
Anmeldetag: 10. Oktober 2006
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Erteilung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00B01F15/04B01F3/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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