Lithografische Projektionsvorrichtung, Gasspülverfahren, Vorrichtungsherstellungsverfahren und Spülgasversorgungssystem
EP2002309
Art A1
17. Dezember 2008
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2002309
- Aktenzeichen
- EP07754421
- Anmeldetag
- 28. März 2007
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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Fachgebiete
Vertreten von
Gambell, Derek
Sevenoaks, Großbritannien
362
Patente gesamt
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18
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