Graben-Gate-Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung

EP2002482 Art A2 17. Dezember 2008

Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2002482
Aktenzeichen
EP07735251
Anmeldetag
26. März 2007
Veröffentlichung
17. Dezember 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/78H01L29/40H01L21/336H01L29/06H01L29/423H01L29/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NXP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

7.818 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen