Gesintertes Sputtertarget aus Hochschmelzenden Metallen
EP2003226
Art B1
24. April 2013
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2003226
- Aktenzeichen
- EP07714782
- Anmeldetag
- 22. Februar 2007
- Veröffentlichung
- 24. April 2013
- Erteilung
- 24. April 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C1/04C22C5/04C22C27/00C22C27/02C22C27/04C22C30/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Hoarton, Lloyd Douglas Charles
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