Organosilanpolymere, Diese Enthaltende Hartmaskenzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen unter Verwendung von Organosilan-Hartmaskenzusammensetzungen
EP2004726
Art A1
24. Dezember 2008
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC., Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2004726
- Aktenzeichen
- EP07700795
- Anmeldetag
- 15. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/00C08G77/02C08G77/08C08G77/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CHEIL INDUSTRIES INC.
Cheil Industries Inc. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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Bublak, Wolfgang
München, Deutschland
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