Geätzte Nanofin-Transistoren

EP2008309 Art A1 31. Dezember 2008

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2008309
Aktenzeichen
EP07754850
Anmeldetag
3. April 2007
Veröffentlichung
31. Dezember 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/06H01L29/786H01L21/8242H01L29/78H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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