Verfahren zur Herstellunf von Kern-Schale Siliziumdioxid
EP2008971
Art A1
31. Dezember 2008
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2008971
- Aktenzeichen
- EP07738887
- Anmeldetag
- 16. März 2007
- Veröffentlichung
- 31. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/18G01N30/88C09C1/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
7.331 Patente in unserer Datenbank