Cvd-Reaktor mit Absenkbarer Prozesskammerdecke

EP2010693 Art B1 28. März 2012

Anmelder: Aixtron SE, AIXTRON AG, Aixtron AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2010693
Aktenzeichen
EP07728168
Anmeldetag
17. April 2007
Veröffentlichung
28. März 2012
Erteilung
28. März 2012
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/44C23C16/46C23C16/455
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Aixtron SE
AIXTRON AG
Aixtron AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

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