Festkörperlaser Mt Räumlich Abgestimmter Aktivionenkonzentration unter Verwendung von Valenzumwandlung mit Oberfächenmaskierung
EP2011201
Art B1
21. Februar 2018
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2011201
- Aktenzeichen
- EP07753744
- Anmeldetag
- 22. März 2007
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2018
- Erteilung
- 21. Februar 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01S3/06H01S3/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Fachgebiete
Vertreten von
Joly, Jean-Jacques
Paris, Frankreich
1.122
Patente gesamt
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Weitere Vertreter
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Dentons UK and Middle East LLP
Dentons UK and Middle East LLP · London
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Dentons UKMEA LLP · London