Siliciumhaltige, schichtbildende Zusammensetzung, siliciumhaltige Schicht, siliciumhaltiges, schichttragendes Substrat und Strukturierungsverfahren
EP2011830
Art B1
28. Dezember 2011
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2011830
- Aktenzeichen
- EP08012027
- Anmeldetag
- 3. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 28. Dezember 2011
- Erteilung
- 28. Dezember 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08L83/04C09D183/04B32B9/04G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
721
Patente gesamt
32
Fachgebiete
9
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Schwerpunkte