Verwendung eines Beleuchtungssystems für die Euv-Lithografie

EP2013663 Art A1 14. Januar 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2013663
Aktenzeichen
EP07724539
Anmeldetag
25. April 2007
Veröffentlichung
14. Januar 2009
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Kanzlei
Boehmert & Boehmert München, Deutschland

Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.

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