Strahlungserzeugungseinrichtung, Lithographische Vorrichtung, Bauelementeherstellungsverfahren und Dadurch Hergestelltes Bauelement
EP2014141
Art B1
29. Februar 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2014141
- Aktenzeichen
- EP07747411
- Anmeldetag
- 27. April 2007
- Veröffentlichung
- 29. Februar 2012
- Erteilung
- 29. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Ketelaars, Maarten F.J.M
NoneDen Haag