Rohling einer Reflektierenden Fotomaske, Herstellungsprozess Dafür, Reflektierende Fotomaske und Prozess zum Herstellen eines Halbleiterbauelements
EP2015139
Art B1
1. Mai 2013
Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2015139
- Aktenzeichen
- EP06834123
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 1. Mai 2013
- Erteilung
- 1. Mai 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/48G21K1/06
Abstract
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Anmelder
- Firma
- Toppan Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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Vertreten von
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TBK-Patent · München