Rohling einer Reflektierenden Fotomaske, Herstellungsprozess Dafür, Reflektierende Fotomaske und Prozess zum Herstellen eines Halbleiterbauelements

EP2015139 Art B1 1. Mai 2013

Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2015139
Aktenzeichen
EP06834123
Anmeldetag
6. Dezember 2006
Veröffentlichung
1. Mai 2013
Erteilung
1. Mai 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/24G03F1/48G21K1/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Toppan Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

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