Steuerung von Plasmaverarbeitung unter Verwendung von durch die Verwendung einer Ebenen Ionenfluss-Sondierungsanordnung Abgeleiteten Parameter
EP2016204
Art A2
21. Januar 2009
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2016204
- Aktenzeichen
- EP07781269
- Anmeldetag
- 3. April 2007
- Veröffentlichung
- 21. Januar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/00H01J37/32G01R19/00H01L21/66H05H1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Browne, Robin Forsythe
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