Zusammensetzung für einen Positiv-Fotoresist und Dadurch Hergestellter Positiv-Fotoresistfilm
EP2016463
Art A1
21. Januar 2009
Anmelder: KOLON INDUSTRIES, INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2016463
- Aktenzeichen
- EP07745866
- Anmeldetag
- 6. April 2007
- Veröffentlichung
- 21. Januar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/008H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOLON INDUSTRIES, INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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Vertreten von
Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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Patente gesamt
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Fachgebiete
9
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Schwerpunkte