Negativ-Fotoresistzusammensetzungen
EP2016464
Art B1
28. April 2021
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials USA Corp. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2016464
- Aktenzeichen
- EP07734219
- Anmeldetag
- 28. März 2007
- Veröffentlichung
- 28. April 2021
- Erteilung
- 28. April 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/027G03F7/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials USA Corp. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Fachgebiete
Kanzlei
Isenbruck Bösl Hörschler PartG mbB
Mannheim, Deutschland
Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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