Resistzusammensetzung für einen Elektronen-, Röntgen- oder EUV-Strahl und Verfahren zur Strukturformung damit

EP2020616 Art A3 29. April 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2020616
Aktenzeichen: EP08013855
Anmeldetag: 1. August 2008
Veröffentlichung: 29. April 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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