Aufbewahrungsbehälter für ein synthetisches Quarzglassubstrat zur Fotomaskenbildung
EP2020682
Art B1
7. April 2010
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2020682
- Aktenzeichen
- EP08252583
- Anmeldetag
- 30. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 7. April 2010
- Erteilung
- 7. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/673H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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