Hydrogel-Platte und Herstellungsverfahren dafür
EP2021031
Art A1
11. Februar 2009
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2021031
- Aktenzeichen
- EP07744839
- Anmeldetag
- 31. Mai 2007
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- A61K47/32A61K8/02A61K8/73A61K8/81A61K9/70A61K47/38A61Q19/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Harrison Goddard Foote
Harrison Goddard Foote · Leeds