Ätzverfahren, Ätzmaske und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements damit

EP2023382 Art A1 11. Februar 2009

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2023382
Aktenzeichen: EP07742708
Anmeldetag: 30. April 2007
Veröffentlichung: 11. Februar 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065C23C14/06H01L21/308H01L33/00H01L21/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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