Galliumnitrid-Wachstumsverfahren, Galliumnitrid-Kristallsubstrat, Verfahren zur Herstellung eines Epi-Wafers und Epi-Wafer
EP2025779
Art A2
18. Februar 2009
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2025779
- Aktenzeichen
- EP08012967
- Anmeldetag
- 17. Juli 2008
- Veröffentlichung
- 18. Februar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/02C30B29/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
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