Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2028547
Art A1
25. Februar 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2028547
- Aktenzeichen
- EP08252678
- Anmeldetag
- 13. August 2008
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon