Verfahren zur Erzeugung eines hochleistungs-Laserstrahls mit geringer Divergenz für Materialverarbeitungsanwendungen

EP2029310 Art B1 23. Dezember 2015

Anmelder: Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2029310
Aktenzeichen: EP07815063
Anmeldetag: 31. Mai 2007
Veröffentlichung: 23. Dezember 2015
Erteilung: 23. Dezember 2015
Rechtsraum: EP
IPC: B23K26/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Cymer, LLC
Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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