Verfahren zur Herstellung von Siliziumwafern

EP2030733 Art B1 6. Oktober 2010

Anmelder: Schott AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2030733
Aktenzeichen: EP08015053
Anmeldetag: 26. August 2008
Veröffentlichung: 6. Oktober 2010
Erteilung: 6. Oktober 2010
Rechtsraum: EP
IPC: B24D7/02C30B29/06C30B33/00B24B7/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Schott AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 SCHOTT

Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Mainz, spezialisiert auf Spezialglas und Glaskeramik für Pharma-, Optik-, Elektronik- und Haushaltsanwendungen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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