Verfahren zur Herstellung von Siliziumwafern
EP2031101
Art A3
25. Mai 2011
Anmelder: Schott AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2031101
- Aktenzeichen
- EP08015054
- Anmeldetag
- 26. August 2008
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24D7/02C30B29/06C30B33/00B24B7/22C30B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Schott AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
SCHOTT
Deutsches Technologieunternehmen mit Sitz in Mainz, spezialisiert auf Spezialglas und Glaskeramik für Pharma-, Optik-, Elektronik- und Haushaltsanwendungen.
1.694 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Fritzsche, Thomas
München, Deutschland
693
Patente gesamt
30
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Fuchs
Fuchs · Wiesbaden