Halbleiter mit Verbesserter Gate-To-Drain-Durchschlagspannung

EP2033210 Art A2 11. März 2009

Anmelder: Northrop Grumman Systems Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2033210
Aktenzeichen
EP07809250
Anmeldetag
31. Mai 2007
Veröffentlichung
11. März 2009
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00H01L27/10H01L29/80
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Northrop Grumman Systems Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Northrop Grumman

US-amerikanischer Rüstungs- und Luftfahrtkonzern mit Sitz in Virginia, tätig in den Bereichen Verteidigungselektronik, Flugzeugbau, Raumfahrt und Cybersicherheit.

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