Nicht absorbierende Fotomaske und Verfahren zu ihrer Herstellung

EP2034359 Art A2 11. März 2009

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2034359
Aktenzeichen: EP08021929
Anmeldetag: 20. Oktober 2000
Veröffentlichung: 11. März 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/08G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von