Verfahren zur Formung einer ferroelektrischen Schicht, ferroelektrische Schicht, ferroelektrische Vorrichtung und Flüssigkeitsentladungsvorrichtung

EP2034534 Art A2 11. März 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2034534
Aktenzeichen: EP08015641
Anmeldetag: 4. September 2008
Veröffentlichung: 11. März 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01L41/18H01L41/22B41J2/14// B41J2/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von