Zusammensetzungen und Verfahren zum Polieren von Siliciumnitridmaterialien

EP2035523 Art B1 13. September 2017

Anmelder: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2035523
Aktenzeichen
EP07809387
Anmeldetag
7. Juni 2007
Veröffentlichung
13. September 2017
Erteilung
13. September 2017
Rechtsraum
EP
IPC
C09K3/14C09G1/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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