Neuartiger Abscheidungsplasma-Aushärtzyklusprozess zur Verbesserung der Filmqualität von Siliciumdioxid
EP2036120
Art A2
18. März 2009
Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2036120
- Aktenzeichen
- EP07784191
- Anmeldetag
- 29. Mai 2007
- Veröffentlichung
- 18. März 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/302C23C16/04C23C16/40H01L21/316H01L21/762C23C16/56H01L21/02H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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