Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP2040122 Art B1 24. Oktober 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2040122
Aktenzeichen: EP08167922
Anmeldetag: 13. September 2006
Veröffentlichung: 24. Oktober 2018
Erteilung: 24. Oktober 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/075G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von