Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP2042925 Art A3 3. Juni 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2042925
Aktenzeichen: EP08016851
Anmeldetag: 25. September 2008
Veröffentlichung: 3. Juni 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von