Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Detektion von Verunreinigungen
EP2042930
Art B1
12. Februar 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2042930
- Aktenzeichen
- EP08253055
- Anmeldetag
- 17. September 2008
- Veröffentlichung
- 12. Februar 2014
- Erteilung
- 12. Februar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Jackson, Martin Peter
NoneLondon