Lösung auf Siliziumebene zur Dämpfung von Substratgeräusch
EP2044626
Art B1
22. Juli 2015
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2044626
- Aktenzeichen
- EP07799114
- Anmeldetag
- 27. Juni 2007
- Veröffentlichung
- 22. Juli 2015
- Erteilung
- 22. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/538H01L21/768H01L23/48H01L23/58H01L21/8234H01L21/8238H01L21/764
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Hutchinson, Glenn Stanley
Sheffield, Großbritannien
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