Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasergrundlage und Vorrichtung dafür
EP2045217
Art B1
13. Juni 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2045217
- Aktenzeichen
- EP07767615
- Anmeldetag
- 26. Juni 2007
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2018
- Erteilung
- 13. Juni 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03B37/014C03B37/018
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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