Lithografische Vorrichtung, Projektionsanordnung und aktive Dämpfung
EP2045664
Art B1
6. März 2013
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2045664
- Aktenzeichen
- EP08165761
- Anmeldetag
- 2. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 6. März 2013
- Erteilung
- 6. März 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B60G17/015F16F15/03F16F7/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Seitz, Holger Fritz Karl
NoneRijswijk